2020-6-19 13:33 |
ISRA.com: Израильский технологический институт "Технион" в Хайфе сообщает о подаче заявки на регистрацию в Соединенных Штатах Америки патентной документации на многоразовую защитную маску с системой самостоятельной очистки. источник »